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納米壓印光刻機

   2016-03-10 科技網(wǎng)整理
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核心提示:技術(shù)特征:●大面積一次壓??;●自動脫模;●由PLC控制工藝過程,可實現(xiàn)自主定制;●可與接近接觸式光刻機

技術(shù)特征:

●大面積一次壓印;

●自動脫模;

●由PLC控制工藝過程,可實現(xiàn)自主定制;

●可與接近接觸式光刻機兼容;

●友好的人機交互,觸模屏操作。
 

主要技術(shù)指標(biāo):

● 分辯力: ≤ 15nm;

● 大功率紫外固化UV LED;

● 樣片尺寸:4 英寸(可定制);

● 壓印面積:2英寸(可定制);

● 模板尺寸:5 x 0.090英寸(可定制);

● 壓印壓力:0 - 25 PSI (可升級到100 PSI);

● 產(chǎn)量:< 5 分鐘/片;

● 使用方便:Step-by-step Menu;

● 應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。
 

   單位名稱:中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所

   單位地址:四川成都雙流西航港光電大道1號

   單位網(wǎng)址:www.ioe.ac.cn

   聯(lián)系人: 胡松、趙立新     電話/傳真:028-85100564

   移動電話:13981738959      電子信箱:husong@ioe.ac.cn   免責(zé)聲明:科技網(wǎng)發(fā)布的科技成果相關(guān)信息系根據(jù)科技成果信息提供方提供的信息內(nèi)容進行發(fā)布。 科技網(wǎng)作為信息收集、發(fā)布平臺,僅對科技成果相關(guān)信息內(nèi)容進行發(fā)布,不對所發(fā)布科技成果的相關(guān)信息的真實性、完整性、準(zhǔn)確性和合法性負責(zé),不保證所發(fā)布科技成果的名稱、圖片、描述與科技成果的實際相符,也不對科技成果做任何擔(dān)保和承諾。
 
 
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