韓國科學(xué)技術(shù)院（KAIST）機(jī)械化工系研究團(tuán)隊(duì)成功利用量子點(diǎn)技術(shù)控制“咖啡環(huán)”現(xiàn)象，提高涂層均勻度。

由于蒸發(fā)率的不同，咖啡滴在固體表面會留下中心淺、外圈重的環(huán)裝咖啡斑。這被稱為“咖啡環(huán)”現(xiàn)象。“咖啡環(huán)”現(xiàn)象直接影響到柔性材料涂層均勻度，消除涂層材料的“咖啡環(huán)”現(xiàn)象是生產(chǎn)新一代顯示器性能的核心技術(shù)。研究團(tuán)隊(duì)借助量子點(diǎn)概念調(diào)整了涂層溶劑成分，通過簡單的蒸發(fā)生產(chǎn)工藝，就成功實(shí)現(xiàn)100微米水平無咖啡環(huán)的均勻噴涂。

此項(xiàng)研究不僅解決了柔性材料涂層均勻度的問題，而且提高了生產(chǎn)水平，增加了原材料使用率，降低了生產(chǎn)成本。該研究結(jié)果刊登在《advanced science》上。

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